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DBD高能離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。高能離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。高能離子體的產(chǎn)生途徑很多,高能離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)采用的放電形式為雙介質(zhì)單阻擋放電 (Dielectric Barrier Discharge,簡稱DBD),該技術(shù)性能先進,運行穩(wěn)定,獲得廣泛客戶的認可。
DBD高能離子技術(shù)
DBD高能離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài),當外加電壓達到氣體的放電電壓時,氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。高能離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解,并發(fā)生后續(xù)的各種反應以達到降解污染物的目的。高能離子體的產(chǎn)生途徑很多,高能離子體工業(yè)廢氣處理技術(shù)采用的放電形式為雙介質(zhì)單阻擋放電 (Dielectric Barrier Discharge,簡稱DBD),該技術(shù)性能先進,運行穩(wěn)定,獲得廣泛客戶的認可。
裝置示意圖如圖3-1所示。
介質(zhì)阻擋放電是一種獲得高氣壓下高能離子體的放電方法,這種放電產(chǎn)生于兩個電極之間。介質(zhì)阻擋放電可以在0.1~10′105Pa的氣壓下進行,具有均勻放電和電暈放電的高氣壓運行的特點。整個放電是由許多在空間和時間上隨機分布的微放電構(gòu)成,這些微放電的持續(xù)時間很短,一般在10ns量級。介質(zhì)層對此類放電有兩個主要作用:一是限制微放電中帶電粒子的運動,使微放電成為一個個短促的脈沖;二是讓微放電均勻穩(wěn)定地分布在整個面狀電極之間,防止火花放電。介質(zhì)阻擋放電由于電極不直接與放電氣體發(fā)生接觸,從而避免了電極的腐蝕問題。
介質(zhì)阻擋放電高能離子體技術(shù)具有以下優(yōu)點:
① 介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的高能離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的有機氣體分子作用。
② 反應快,不受氣速限制。
③ 采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設備腐蝕問題。
④ 只需用電,操作極為簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費。
⑤ 設備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。
氣阻小,工藝成熟。
高能離子體中能量的傳遞大致如下:
介質(zhì)阻擋放電過程中,電子從電場中獲得能量,通過碰撞將能量轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能或動能,這些獲得能量的分子被激發(fā)或發(fā)生電離形成活性基團,同時空氣中的氧氣和水分在高能電子的作用下也可產(chǎn)生大量的新生態(tài)氫、臭氧和羥基氧等活性基團,這些活性基團相互碰撞后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學反應。從高能離子體的活性基團組成可以看出,高能離子體內(nèi)部富含極高化學活性的粒子,如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等。惡臭廢氣中的污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團發(fā)生反應,最終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O等物質(zhì),從而達到凈化惡臭廢氣的目的。
高能離子體化學反應過程大致如下:
從以上反應過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到污染物分子中去,那些獲得能量的污染物分子被激發(fā),同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然后這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。
另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學活性,在化學反應中起著重要的作用。
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